한양대학교반도체재료연구실은1992년전형탁교수님의 지도아래 탄생하여3차원구조등의 복잡한구조에서도정확한두께조절로불순물및결함없는균일한막의성장이가능한원자층증착법(Atomic layer deposition)을이용하여메모리소자, 디스플레이, 태양전지등에이용되는 반도체 재료의물성연구및증착공정그리고각소자에서발생되는계면분석등의연구를기반으로 미래핵심소자의개발및성능향상을목표로연구하고있습니다. 

 

1. Plasma를 이용한 Atomic Layer Deposition 공정

2. Plasma를 이용한 Cleaning 및 Surface analysis에 관한 연구

3. ALD를 이용한 Metal Oxide Semiconductor 물질 증착 및 응용에 관한 연구

4. ALD를 이용한 3차원 나노 구조체의 표면 기능화 및 응용에 관한 연구

5. ALD를 이용한 태양전지, 디스플레이의 보호막 형성에 관한 연구

 

 

 

 

1. High-k material study

2. Metal

3. Passivation layer

4. Display application

5. Nano structure

6. 2D Materials

7. Solar Cell

 

Taeyong Park, Dongjin Choi, Hagyoung Choi, and Hyeongtag Jeon*
The properties of Ru films deposited by remote plasma atomic layer deposition on Ar plasma-treated SiO2
2011, , Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

Hak-Joo Lee,1,2 Hyeongtag Jeon,2 and Wook-Seong Lee
Ultrananocrystalline diamond film deposition by direct-current plasma assisted chemical vapor deposition using hydrogen-rich precursor gas in the absence of the positive column
2011, , Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

Seokhwan Bang a, Seungjun Lee a, Joohyun Park a, Soyeon Park a, Youngbin Ko a, Changhwan Choi a,
The effects of post-annealing on the performance of ZnO thin film transistors
2011, , Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

김현정
The annealing effect on work function variation of WNxCy films deposited by remote plasma atomic layer deposition
PSSA, 2017, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

서원덕
Thickness-dependent structure and properties of SnS2 thin films prepared by atomic layer deposition
JJAP, 2017, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

박재형
Investigation of the barrier properties of copper-vanadium alloys with a sub-tantalum layer on low-k dielectrics
JAC , 2017, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

신석윤
Effecto of scan speed on moisture barrier properties of aluminum oxide suing spatial atomic layer deposition
JVSTA, 2017, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0